大佛巖摩崖造像

大佛巖摩崖造像（第三批）。

保護(hù)范圍：東向以1號(hào)龕為基點(diǎn)沿巖壁外延30米，南向以山腳為基點(diǎn)外延20米，西向以23號(hào)龕為基點(diǎn)沿巖壁外延30米，北向以山頂為基點(diǎn)外延10米。

建設(shè)控制地帶：保護(hù)范圍外延30米。

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